无掩模曝光系统PALET

让光刻技术离您更近！

半导体曾被称为“工业之米”。光刻技术是半导体工艺
的基础技术。需要光刻技术
的领域随着时代的发展而不断扩大，现在
它已成为微加工技术的代表，广泛应用于MEMS、物理性能研究和生物技术等领域。

另一方面，
不仅，即使是现有的亚微米图案曝光
设备，其设备尺寸也很大，设备价格也达到数千万至数亿日元，事实上，引进的障碍对环境、附带设备、对使用者的技术水平要求极高。对于那些说“我对微加工感兴趣，但附近没有基础设施”的研究人员和工程师来说，这个高障碍足以放弃开发主题。

“无掩模曝光系统PALET”实现了可以在任何地方安装的设备尺寸、打破无掩模曝光系统常识的价格设定，以及允许您创建当场想到的图案的简单操作性。从用户角度消除障碍的产品规格非常适合需要反复试验的研究和原型设计应用程序。

通过这个“无掩模曝光系统PALET”，我们希望让光刻技术变得更加熟悉，并有助于加速各种研究。