什么是半导体曝光设备？

 半导体曝光设备是半导体制造过程中用于在硅片上绘制电路图案的设备。强大的紫外光透过光掩模，作为电路图案的原型，电路图案被转移到涂有光刻胶的硅晶片上。近年来，一些设备使用波长为13 nm（称为EUV）的激光来微型化精细电路图案。由于定位等要求极高的精度，因此设备价格昂贵。