什么是电子束光刻系统

 电子束曝光设备是用于制造半导体光掩模时利用电子束在光掩模坯料（以下简称坯料）上绘制电路图案的设备。

在制造存储器、CPU等LSI时，需要使用由数十层构成的光掩模作为底板，通过曝光装置将光掩模上的图案转移到晶圆上，从而制作电路。

光掩模的质量对LSI的成品率影响最大，因此绘制光掩模图形的电子束光刻系统可以说是LSI制造中最重要的设备之一。