电子束光刻设备的应用

 电子束光刻系统用于在光掩模制造过程中在空白板上绘制电路图案，也用于制造MEMS等纳米技术产品。在LSI制造过程中，掩模制造将设计过程中创建的电子文件上的图案数据转换为光掩模上的实际图案。

通过在玻璃板上形成一层薄薄的金属膜（例如铬），并在其上涂上对电子束敏感的电子束光刻胶，即可制作出空白版。使用电子束光刻系统，根据图案数据，用电子束照射空白版，电子束光刻胶分子会被切割或聚合，从而形成图案。

此外，对于一些开发应用，电子束光刻系统用于将图案直接写入晶圆上而无需使用光掩模，因为电子束的波长比激光的波长短得多，从而可以实现更高的分辨率。