曝光设备应用
曝光设备主要用于半导体和平板显示器（FPD），包括液晶显示器的制造。
在半导体制造过程中，以硅晶片为基板，在形成氧化膜等膜层后，涂敷光刻胶（感光材料）。然后，利用曝光装置通过光掩模照射强紫外线，通过蚀刻等方法去除不需要的区域。这种使用曝光装置的方法称为光刻法。
在LCD制造过程中，一般采用玻璃基板，并经过金属等薄膜沉积、光刻、蚀刻等多个循环的重复。
一片基板可用来形成像素电极和开关元件（例如TFT元件），另一片基板可用来形成具有光的三原色（红、绿、蓝）的彩色滤光片。通过将两片基板粘合在一起并在其间放置液晶材料，便完成了液晶面板的制作。
选择曝光工具时，需要与工具制造商彻底讨论用于曝光的光的类型、其精度、平台的精度等，因为这些都是非常昂贵的工具。