曝光设备原理

 本节介绍曝光设备的测量原理。曝光设备由光源、偏转透镜、光掩模、聚光透镜、工作台、搬运硅片的机械手等组成。

镜头、光掩模等均采用极高精度设计，平台也同样以高精度运行。操作时，曝光目标被精确地固定在平台上。操作时，平台每次曝光都会移动，并在曝光目标的整个表面上写入多个图案。

从光源发射出的短波长强光，经偏转透镜偏转后，照射到构成电路图案的原型光掩模上。透过光掩模的光经聚光透镜聚焦，在待曝光目标上绘制出极小的电路图案。

整个物体曝光完成后，由机器人等进行搬运。根据产品不同，曝光物体还会浸入液体中，从而实现更精确的曝光。