DDB激光直写设备

レーザ直接描画装置

■製品特長
・最小1μmでのパターンニングが可能
・マスクを使用せずに任意のパターンをレジストに露光が可能
・小型な装置であり、大気中での露光が可能な為、少ない設置場所の要求条件
・分解能10nmのステージにより高精度な位置決めを実現

■主なアプリケーション
・磁性薄膜等の任意形状のパターンニング
・センサ、半導体デバイスの試作
・MEMSデバイスの試作
・オプトエレクトロニクス、LEDの試作
・マイクロ流体デバイスの試作
・マスク作成
・細胞等の分別用流路作成
・光導波路の作成